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質(zhì)檢——精密光學(xué)測量儀器

質(zhì)檢——精密光學(xué)測量儀器

  • 產(chǎn)品型號:
  • 更新時間:2023-12-21
  • 產(chǎn)品介紹:質(zhì)檢——精密光學(xué)測量儀器
    LAYERTEC的精密光學(xué)設(shè)備配備了用于平面和球形曲面的干涉儀。可以為平面度為λ/ 20(633nm)的平面基板和形狀度為λ/ 10(633nm)的球形基板提供干涉測量規(guī)程。
  • 廠商性質(zhì):代理商
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產(chǎn)品介紹

品牌其他品牌價格區(qū)間面議
組件類別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

質(zhì)檢——精密光學(xué)測量儀器

LAYERTEC致力于確保當(dāng)前和未來產(chǎn)品的質(zhì)量。

我們*的測量設(shè)備可用于監(jiān)督基材和涂層的生產(chǎn)。

例如我們定期測量

Ø表面形態(tài)

Ø表面粗糙度/精加工質(zhì)量

Ø光譜透射率和反射率

Ø頻譜相位和GDD(如果適用)

Ø使用以O(shè)PO為光源的寬帶腔衰蕩設(shè)置在寬波長范圍內(nèi)進行高級反射率測量

Ø某些波長和脈沖長度的損傷閾值測量

質(zhì)檢——精密光學(xué)測量儀器

LAYERTEC的精密光學(xué)設(shè)備配備了用于平面和球形曲面的干涉儀。可以為平面度為λ/ 20(633nm)的平面基板和形狀度為λ/ 10(633nm)的球形基板提供干涉測量規(guī)程。

LAYERTEC還使用高性能的Fizeau干涉儀和Twyman-Green干涉儀在以下測量范圍內(nèi)對大型光學(xué)器件的形狀公差進行測量:

平面:

Ø最大∅= 300mm

Ø測量精度:平坦度λ/ 100(546nm)

球面:

Ø最大∅= 500mm

Ø測量精度:形狀公差為λ/ 50(546nm)

原子力顯微鏡(AFM)是有用的儀器,用于表征均方根粗糙度低于5Å的非常光滑的表面。LAYERTEC具有AFM,可控制特殊的拋光過程并根據(jù)要求提供檢查方案。

涂層測量工具

LAYERTEC的檢查程序包括在120nm至20µm的波長范圍內(nèi)對鍍膜光學(xué)元件進行分光光度測量。使用PERKIN ELMER分光光度計Lambda950®,Lambda750®和Lambda19®在190nm – 3200nm波長范圍內(nèi)進行標準分光光度測量。對于超出此波長范圍的測量,LAYERTEC配備了FTIR光譜儀(對于λ=1μm...20μm)和VUV光譜儀(對于λ= 120nm ... 240nm)。

通過腔衰蕩時間光譜法測量高反射率,R = 99.9 ... 99.9995%。實際上,LAYERTEC配備了各種CRDS測量系統(tǒng),可以在355nm至1064nm的波長范圍內(nèi)使用。此外,還提供了一種新穎的寬帶CRDS設(shè)置,該設(shè)置可以測量220nm至2300nm之間的低損耗反射鏡的反射率。

LAYERTEC配備了LIDT測量設(shè)置,工作于266nm,355nm,532nm和1064nm且具有ns脈沖。

還可以與耶拿光子技術(shù)研究所,弗勞恩霍夫研究所耶拿Jena和漢諾威激光Zentrum合作,對光學(xué)薄膜和塊狀材料的吸收和散射損耗進行測量,并對激光損傷閾值進行測量。


菲索干涉儀(SOLITON MiniFIZ 300)


干涉儀(OptoTech®)


原子力顯微鏡(DINanoscope®)


分光光度計


腔振鈴設(shè)置



GDD測量設(shè)置

低損耗光學(xué)元件的反射率和透射率的測定

低損耗光學(xué)組件的反射率值R> 99%和透射率值T> 99%可以通過腔衰蕩時間測量非常準確地測量。與在光譜儀中進行測量相比,該方法具有三個主要優(yōu)點:

Ø適用于非常高的反射率和透射率

Ø無法獲得比實際值高的測量值

Ø精度很高



基本CRD測量設(shè)置

Layertec帶有各種腔衰蕩系統(tǒng),通過這些系統(tǒng)可以穩(wěn)定地控制光學(xué)組件的質(zhì)量。有關(guān)更多詳細信息,請參見我們的目錄內(nèi)容“低損耗光學(xué)器件和腔衰蕩時間測量簡介”。

您可以在此處下載我們的目錄。

相位優(yōu)化的fs-Laser寬帶鏡-CRD測量示例



低損耗鏡-CRD測量示例



轉(zhuǎn)向鏡-寬帶CRD測量示例



薄膜偏振片-CRD測量示例




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